[实用新型]一种基片曝光吸盘有效
| 申请号： | 201721777171.0 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN207541410U | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 梁万国;李广伟;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 | 申请（专利权）人： | 福建中科晶创光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350108 福建省福州市闽侯县上街镇科技东路中*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种基片曝光吸盘；包括吸盘主体，还包括载片、负压抽嘴、压力表和压力调节阀；所述吸盘主体的内腔内具有一圈凸台；所述凸台上嵌有一圈密封圈；所述载片通过所述密封圈可拆卸安装在所述凸台上，其中所述载片的外表面上设有一个卡固组件；所述负压抽嘴、压力表和压力调节阀均设于所述吸盘主体上，且与所述吸盘主体的内腔连通。在曝光过程中，使用本实用新型代替常规的夹持夹具，本实用新型吸附压力稳定、不易脱片、基片变形量小，特别是对于厚度较薄的基片，对保证基片的形变量更有效。 | ||
| 搜索关键词： | 吸盘主体 本实用新型 压力表 吸盘 压力调节阀 负压 密封圈 夹具 可拆卸安装 卡固组件 内腔连通 曝光过程 圈密封圈 吸附压力 曝光 变形量 常规的 圈凸台 形变量 夹持 内腔 嵌有 载片 保证 | ||
【主权项】：
1.一种基片（11）曝光吸盘；包括吸盘主体（1），其特征在于：还包括载片（3）、负压抽嘴（6）、压力表（7）和压力调节阀（8）；所述吸盘主体（1）的内腔内具有一圈凸台（2）；所述凸台（2）上嵌有一圈密封圈（5）；所述载片（3）通过所述密封圈（5）可拆卸安装在所述凸台（2）上，其中所述载片（3）的外表面上设有一个卡固组件（4）；所述负压抽嘴（6）、压力表（7）和压力调节阀（8）均设于所述吸盘主体（1）上，且与所述吸盘主体（1）的内腔连通。
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