[实用新型]一种循环利用活化液的沉铜装置有效
申请号: | 201721775809.7 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN207581937U | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 黄邦盛;刘建国;谢宝才;黄秋兰 | 申请(专利权)人: | 信丰卓思涵电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38;C23C18/18 |
代理公司: | 南昌赣专知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 刘锦霞;文珊 |
地址: | 341600 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种循环利用活化液的沉铜装置,包括沉铜缸缸体,所述沉铜缸缸体的底端固定安装有缓冲座,所述沉铜缸缸体的一侧顶端设有控制面板,所述沉铜缸缸体的内壁嵌接有加热管,所述沉铜缸缸体的另一侧底端焊接有支撑板,所述支撑板上固定安装有鼓风机,所述鼓风机通过进风管与出风盘连接,所述进风管中卡接有静电网,所述进风管上设置有第二控制阀,所述出风盘的底端安装有隔板,所述隔板的底部安装有电机。通过搅拌杆带动搅拌叶转动,使得沉铜活化液浓度均一,保证了铜离子浓度的均匀性,使得沉铜效果更好,并且速度控制器能够控制转动的速度,避免转动速度过快而影响沉铜的质量。 | ||
搜索关键词: | 沉铜缸 缸体 活化液 进风管 沉铜 底端 转动 隔板 鼓风机 沉铜装置 循环利用 出风盘 支撑板 本实用新型 速度控制器 控制面板 缓冲座 搅拌杆 搅拌叶 静电网 均匀性 控制阀 内壁嵌 铜离子 均一 卡接 热管 焊接 电机 保证 | ||
【主权项】:
1.一种循环利用活化液的沉铜装置,包括沉铜缸缸体(1),其特征在于:所述沉铜缸缸体(1)的底端固定安装有缓冲座(12),所述沉铜缸缸体(1)的一侧顶端设有控制面板(2),所述沉铜缸缸体(1)的内壁嵌接有加热管(3),所述沉铜缸缸体(1)的另一侧底端焊接有支撑板(22),所述支撑板(22)上固定安装有鼓风机(23),所述鼓风机(23)通过进风管(25)与出风盘(19)连接,所述进风管(25)中卡接有静电网(24),所述进风管(25)上设置有第二控制阀(26),所述出风盘(19)的底端安装有隔板(27),所述隔板(27)的底部安装有电机(16),所述电机(16)的输出端通过联轴器(15)与搅拌杆(14)传动连接,且搅拌杆(14)上安装有速度控制器(17),所述沉铜缸缸体(1)的内部底端设有回收缸(20),所述回收缸(20)的顶端通过导管(18)与出液口(8)连通,且出液口(8)的顶端与沉铜腔(28)连通,所述导管(18)上设置有第一控制阀(9),所述导管(18)的底端连通有漏斗(10),所述沉铜腔(28)中安装有挂篮(4),所述挂篮(4)的顶端两侧对称设置在挂杆(29)一端,所述挂篮(4)中安装有线路板(5),所述挂杆(29)上安装有激震器(30),所述第一控制阀(9)、电机(16)、速度控制器(17)、鼓风机(23)、第二控制阀(26)和激震器(30)均与控制面板(2)电性连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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