[实用新型]离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构有效

专利信息
申请号: 201721039029.6 申请日: 2017-08-18
公开(公告)号: CN207149523U 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 张彤;蔡克亚;吴鹏鹏;李彬;宋家玉;吴学炜;刘聪;王超;王存鑫;赵高岭 申请(专利权)人: 安图实验仪器(郑州)有限公司
主分类号: H01J27/02 分类号: H01J27/02
代理公司: 郑州异开专利事务所(普通合伙)41114 代理人: 王霞
地址: 450016 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构,包括离子源真空腔体组件;离子源腔口盖板通过螺钉与离子源腔体密封连接;围绕离子源腔体的腔口开设有密封槽;离子源腔体的腔口四角分别开设有螺孔,其中两个相邻螺孔的孔口分别开设有第一扩孔,两个第一扩孔内分别以静配合方式设置有第一定位轴套,两个第一定位轴套的顶部向上延伸出各自的第一扩孔之外;离子源腔口盖板上对应于四个螺孔位置处分别开设有沉头销孔,对应于两个第一扩孔的两个沉头销下孔口开设有第二扩孔,每个第二扩孔内分别以静配合方式设置有第二定位轴套。本实用新型优点在于解决了离子源腔体、离子源腔口盖板两者之间的定位和密封问题。
搜索关键词: 离子源 主腔体 盖板 整体 定位 密封 结构
【主权项】:
一种离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构,包括由分子泵、真空计、离子源腔体、离子源腔口盖板组成的离子源真空腔体组件;所述离子源腔口盖板通过螺钉与离子源腔体密封连接;其特征在于:围绕所述离子源腔体的腔口开设有密封槽,所述密封槽内设置有密封圈;离子源腔体的腔口四角分别开设有螺孔,其中两个相邻所述螺孔的孔口分别开设有第一扩孔,两个所述第一扩孔内分别以静配合方式设置有第一定位轴套,两个所述第一定位轴套的顶部向上延伸出各自的第一扩孔之外;所述离子源腔口盖板上对应于四个所述螺孔位置处分别开设有沉头销孔,对应于两个第一扩孔的两个所述沉头销孔下孔口开设有第二扩孔,每个所述第二扩孔内分别以静配合方式设置有第二定位轴套,两个所述第二定位轴套的内孔均为下大上小的台阶孔,所述台阶孔的大直径孔径大于对应第一定位轴套的外径。
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  • 邹桂清;曹建勇;周博文;余珮炫;魏会领;周红霞 - 核工业西南物理研究院
  • 2015-12-31 - 2017-08-18 - H01J27/02
  • 本实用新型属于一种高功率离子源技术领域,具体涉及一种高功率强流离子源四电极支撑座组件;该组件主要包括四个大尺寸电极法兰,三个带有数条细缝结构的电极支架,三个PEEK绝缘腔。每两个法兰之间有一个绝缘腔,法兰通过O型氟橡胶密封圈与绝缘腔配合构成两端开口的真空密封绝缘腔。该电极栅支撑座组件采用了将四层电极法兰、绝缘腔以及支撑架通过密封圈密封组装之后,再次对四层支撑面进行平行度修正的方法,可以使每层电极支撑面之间的平行度达到0.04mm以内,有效降低了多个工件装配公差,降低了电极间场强的非均匀性;增大了电极系统的抽口面积,降低了电极栅层与层之间的真空度,降低高功率离子源引出期间的电击穿概率。
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