[实用新型]一种制备掺杂薄膜的脉冲激光沉积装置

摘要

本实用新型公开了一种制备掺杂薄膜的脉冲激光沉积装置，装置包括石英管、电炉、真空泵、激光脉冲发生器、第一反射镜、第二反射镜以及透镜；其中，石英管的一端连接真空泵，石英管的另一端设置有气体入口，石英管中设置有靶材架，靶材架上设置有至少两个靶材卡扣，电炉为管式炉，管式炉围绕着石英管的中部，透镜安装在可转动的支架上，第一反射镜、第二反射镜设置在透镜和激光脉冲发生器之间。采用本实用新型公开的脉冲激光沉积装置，可以得到不均匀的掺杂原子浓度梯度，这种特殊的结构，改变了薄膜的电学性能和光学性能，并且可以控制制备参数得到不同的掺杂浓度薄膜，适宜多种不同电学器件的应用。

主权项

一种制备掺杂薄膜的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述装置包括石英管、电炉、真空泵、激光脉冲发生器、第一反射镜、第二反射镜以及透镜；其中，所述石英管的一端连接所述真空泵，所述石英管的另一端设置有气体入口，所述石英管中设置有靶材架，所述靶材架上设置有至少两个靶材卡扣，所述电炉为管式炉，所述管式炉围绕着所述石英管的中部，所述透镜安装在可转动的支架上，所述第一反射镜、所述第二反射镜设置在所述透镜和所述激光脉冲发生器之间。