[实用新型]一种器件膜层处理装置

摘要

本实用新型公开了一种器件膜层处理装置，该器件膜层处理装置包括多个腔室，各腔室内部包括至少一个调温板，用于加热或冷却，调温板上设有至少一个真空吸附孔；至少一个承载机构，设置于调温板上，与真空吸附孔同侧，同一调温板上的一个或多个承载机构用以承载基板，基板表面形成有湿膜或膜层；至少一个驱动机构，用于驱动承载机构相对于调温板移动，以调整基板与调温板间的距离，多个腔室中至少包括一个真空腔室。对器件膜层或湿膜进行干燥或冷却时，将基板置于承载机构上，可以通过驱动机构驱动承载机构相对于调温板移动，来实现调整基板与调温板之间的距离，使得基板上的膜层进行渐进式干燥或冷却处理，使膜层厚度更加均匀，提高产品品质。

主权项

一种器件膜层处理装置，其特征在于，所述器件膜层处理装置包括多个腔室，各腔室内部包括：至少一个调温板(1)，用于加热或冷却，所述调温板(1)上设有至少一个真空吸附孔(11)；至少一个承载机构(2)，设置于调温板(1)上，与所述真空吸附孔(11)同侧，同一调温板(1)上的一个或多个承载机构(2)用以承载基板(3)，其中，所述基板(3)表面形成有湿膜或膜层；至少一个驱动机构，用于驱动一个或多个承载机构(2)相对于调温板(1)移动，以调整基板(3)与调温板(1)间的距离，其中，所述多个腔室中至少包括一个真空腔室。