[实用新型]离子源和真空镀膜系统有效
| 申请号： | 201720571996.0 | 申请日： | 2017-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN206872935U | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 孔德兴 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人： | 韩建伟,谢湘宁 |
| 地址： | 215634 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种离子源和真空镀膜系统，其中，离子源包括离子源主体，离子源主体具有离子发射腔和与离子发射腔连通的离子发射开口；离子源挡板，离子源挡板可开闭地设置在离子发射开口处；离子源挡板包括板体，板体具有朝向离子发射腔的遮挡面；收纳清理部，收纳清理部设置在板体上，收纳清理部包括格栅网结构，格栅网结构设置在遮挡面上以防止板体上沉积的蒸发物质掉落入离子发射腔内。本实用新型解决了现有技术中的离子源工作稳定性差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 真空镀膜 系统 | ||
【主权项】：
一种离子源，其特征在于，包括：离子源主体(1)，所述离子源主体(1)具有离子发射腔(12)和与所述离子发射腔(12)连通的离子发射开口(13)；离子源挡板(2)，所述离子源挡板(2)可开闭地设置在所述离子发射开口(13)处；所述离子源挡板(2)包括板体(10)和收纳清理部(20)，其中，所述板体(10)具有朝向所述离子发射腔(12)的遮挡面，所述收纳清理部(20)设置在所述板体(10)上，所述收纳清理部(20)包括格栅网结构(21)，所述格栅网结构(21)设置在所述遮挡面上以防止所述板体(10)上沉积的蒸发物质掉落入所述离子发射腔(12)内。
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