[实用新型]离子源和真空镀膜系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体而言，涉及一种离子源和真空镀膜系统。

背景技术

真空镀膜系统用于对基材的表面进行镀膜，使用蒸发镀膜技术对基材进行镀膜的真空镀膜系统通常设置有离子源，离子源作为一种真空蒸发镀膜技术中的辅助设备，其在物理气象沉积真空镀膜中起到很重要的作用，其工作的稳定性直接影响到基材表面膜层的致密性程度，以及基材表面膜层的折射率性能。

离子源在工作过程中，离子源挡板上容易沉积蒸发物质，沉积的蒸发物质越来越多，当离子源挡板不足以为沉积的蒸发物质提供足够的表面附着力时，离子源挡板的开合运动容易导致蒸发物质掉落，由于蒸发物质掉落的时间和位置都是随机发生的，因此，当蒸发物质掉落到离子源的离子发射腔内后，离子源可能会将被受到污染的蒸发物质发射到基材的表面，从而造成基材表面镀上的膜层污浊，进而使镀膜产品的外观存在瑕疵；此外，蒸发物质掉落到离子源的离子发射腔内后甚至可能发生打火现象而造成离子源的工作故障，从而降低了离子源的工作稳定性，进而导致真空镀膜系统无法可靠地持续运行。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种离子源和真空镀膜系统，以解决现有技术中的离子源工作稳定性差的问题。

为了实现上述目的，根据本实用新型的一个方面，提供了一种离子源，包括：离子源主体，离子源主体具有离子发射腔和与离子发射腔连通的离子发射开口；离子源挡板，离子源挡板可开闭地设置在离子发射开口处；离子源挡板包括：板体，板体具有朝向离子发射腔的遮挡面；收纳清理部，收纳清理部设置在板体上，收纳清理部包括格栅网结构，格栅网结构设置在遮挡面上以防止板体上沉积的蒸发物质掉落入离子发射腔内。

进一步地，遮挡面为平面，格栅网结构与遮挡面贴合设置；或遮挡面为曲面，格栅网结构与板体的边缘连接。

进一步地，格栅网结构为多个，多个格栅网结构沿板体的厚度方向层叠设置。

进一步地，格栅网结构由不锈钢制成。

进一步地，格栅网结构通过螺栓与板体可拆卸地连接；或格栅网结构与板体焊接。

进一步地，板体还具有沿其厚度方向与遮挡面相对设置的第二表面，收纳清理部还包括振动结构，振动结构设置在第二表面上。

进一步地，离子源挡板还包括控制部，振动结构为多个，多个振动结构相间隔地分布在第二表面上，控制部与多个振动结构电连接。

进一步地，振动结构为振动器。

进一步地，离子源挡板具有遮挡离子发射开口的关闭位置和避让离子发射开口的打开位置，当离子源挡板处于打开位置时，控制部控制振动结构工作以使板体上沉积的蒸发物质掉落在离子发射腔外。

根据本实用新型的另一方面，提供了一种真空镀膜系统，用于对基材进行蒸发镀膜，包括：外壳，外壳具有真空镀膜腔；蒸发源，蒸发源设置在真空镀膜腔内并向真空镀膜腔内释放蒸发物质以在基材的表面形成膜层；离子源，离子源设置在真空镀膜腔内并向真空镀膜腔内释放离子以提高膜层的致密度；离子源为上述的离子源。

应用本实用新型的技术方案，由于设置在板体上的收纳清理部包括格栅网结构，格栅网结构设置在板体的遮挡面上以防止板体上沉积的蒸发物质掉落入离子发射腔内。这样，格栅网结构能够对沉积在板体上的蒸发物质起到一定的隔挡作用，从而增大了离子源挡板承载蒸发物质的量，且格栅网结构的设置还能够提高蒸发物质附着在离子源挡板上的附着力，使沉积的蒸发物质能够随离子源挡板的运动而稳定地运动，大大地降低了蒸发物质从离子源挡板上掉落的概率，避免了蒸发物质掉落入离子源主体的离子发射腔内，进而提高了离子源工作稳定性。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本实用新型的一种可选实施例的当离子源的离子源挡板处于关闭位置时，离子源的结构示意图；

图2示出了图1中的当离子源的离子源挡板处于打开位置时，离子源的结构示意图；

图3示出了根据本实用新型的一种可选实施例的离子源挡板的格栅网结构的结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

1、离子源主体；2、离子源挡板；10、板体；11、第二表面；12、离子发射腔；13、离子发射开口；20、收纳清理部；21、格栅网结构；22、振动结构。

具体实施方式