[实用新型]一种宽禁带半导体量子点荧光的二阶相关性测量系统有效

专利信息
申请号: 201720512774.1 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN206930368U 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 张晖;李沫;陈飞良;李倩;孙鹏;黄锋;李俊泽 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院电子工程研究所
主分类号: G01J11/00 分类号: G01J11/00
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙)51211 代理人: 蒋斯琪
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型针对宽禁带半导体量子点难以在光学显微镜下辨识并测量其荧光的二阶相关性的问题,提出了联合共聚焦显微镜,电动平移载物台,光谱仪及单光子探测器,构建成一套方便、易实施的宽禁带半导体量子点荧光的二阶相关性测量系统,可以实现二阶相关性的二维平面内扫描测量,能够一次性测量整个衬底上所有量子点各自的荧光二阶相关性结果,有效解决量子点在光学显微镜下难以寻找和定位的问题。
搜索关键词: 一种 宽禁带 半导体 量子 荧光 相关性 测量 系统
【主权项】:
宽禁带量子点荧光的二阶相关性测量系统,其特征在于,至少包括:一用于提供激光的激光源,一用于对激光进行聚焦和用于收集量子点荧光的共聚焦显微镜,一实现样品进行横向平面内的位移的电动平移载物台;一光谱仪,包括两个出口,一个出口外接光谱成像CCD,另一个出口外接二阶相关性测量装置;共聚焦显微镜位于激光源的激光光照方向上,电动平移载物台位于共聚焦显微镜的下方,光谱仪的进光口位于共聚焦显微镜的样品的荧光透射方向上。
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