[实用新型]一种磁控溅射镀膜机有效
| 申请号： | 201720302520.7 | 申请日： | 2017-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN206956141U | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 王福贞 | 申请（专利权）人： | 王福贞 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100102 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型是一种在镀膜室中央配置两个柱状阴极电弧源的旋靶管型柱状非平衡闭合磁场的磁控溅射镀膜机。在镀膜室周边安装旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，进行镀膜。旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶内磁钢的磁极性反向排列，形成闭合磁场。在镀膜室中央安装两个柱状阴极电弧源。镀膜前，两个柱弧源互为阴阳极，利用弧光放电的高密度的电子流把氩气电离，得到高密度的氩离子流轰击净化工件。在镀膜过程中，两个柱弧源发射高密度的弧光等离子体进行辅助沉积并参与镀膜。使阴极电弧源产生弧光等离子体始终参与辉光放电的磁控溅射镀膜的加热、轰击净化、辅助沉积和镀膜的全过程。提高膜基结合力和镀出优异的薄膜材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜机，镀膜室内有沿镀膜室周边安装的柱状磁控溅射靶和工件转架，工作状态时，柱状磁控溅射靶向工件转架上的工件进行镀膜，其特征在于：镀膜室的中央安装两个柱状阴极电弧源；镀膜机还包括有直流弧电源和交变弧电源；在镀膜前，两个柱状阴极电弧源连接交变弧电源，两个柱弧源互为阴阳极，启动弧光放电以后，轰击净化工件；在用柱状磁控溅射靶进行镀膜的同时，把两个柱状阴极电弧源连接弧电源的负极，镀膜室接正极，启动弧光放电以后，两个柱状阴极电弧源和周边的柱状磁控溅射靶一起对工件镀膜.
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