[实用新型]一种高均匀性LED平行光曝光机光源系统有效
申请号: | 201720073645.7 | 申请日: | 2017-01-21 |
公开(公告)号: | CN206848690U | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 周玉刚;蔡云峰 | 申请(专利权)人: | 南京新趋势光电有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256 | 代理人: | 王锋 |
地址: | 210046 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高均匀性LED平行光紫外曝光机光源系统,包由阵列排布的紫外LED灯珠和对应的准直透镜紫外LED组成的平行光源模组、支撑光源模组或样品移动的机械与控制系统,该机械与控制系统使曝光时光源模组与样品在x‑y二维平面内相对运动,其运动轨迹均匀分布且最外围覆盖光源模组的最小重复单元。本实用新型采用移动旋转系统及其平行光源模组极大地提高了曝光均匀度,同时因降低了光源发散角而使得曝光强度提高,提高了曝光质量,解决了因分辨率不一致而导致的断线等现象;本实用新型还有利于多种波长的平行光实现均匀曝光,从而适应不同的油墨、光阻。 | ||
搜索关键词: | 一种 均匀 led 平行 曝光 光源 系统 | ||
【主权项】:
一种高均匀性LED平行光紫外曝光机光源系统,其特征在于:包括由阵列排布的紫外LED灯珠和对应的准直透镜紫外LED组成的平行光源模组、支撑光源模组或样品移动的机械与控制系统,该机械与控制系统使曝光时光源模组与样品在x‑y二维平面内相对运动,其运动轨迹均匀分布且最外围覆盖光源模组的最小重复单元。
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