[发明专利]蒸发源和蒸镀设备在审
| 申请号： | 201711462654.6 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN107955936A | 公开（公告）日： | 2018-04-24 |
| 发明（设计）人： | 涂爱国;李金川 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人： | 郝传鑫,熊永强 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸发源，包括腔体和喷嘴，所述腔体包括相对的顶部和底部，所述喷嘴设于所述腔体顶壁，所述喷嘴与导流管相连，所述腔体侧壁设有固定装置，所述导流管经所述腔体顶部折弯并由所述固定装置固定于所述腔体侧壁面。通过使导流管被固定装置固定于腔体侧壁面，使导流管在离开蒸发源时，还经过腔体侧壁面这段温度较高的区域，使导流管的温度下降速度减慢，使管路内的温度较高，用于蒸镀的蒸汽小分子不易在导流管内凝聚，防止基板发生不良。本发明还提供了一种蒸镀设备。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 设备 | ||
【主权项】：
一种蒸发源，其特征在于，包括腔体和喷嘴，所述腔体包括相对的顶部和底部，所述喷嘴设于所述腔体顶壁，所述喷嘴与导流管相连，所述腔体侧壁设有固定装置，所述导流管经所述腔体顶部折弯并由所述固定装置固定于所述腔体侧壁面。
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