[发明专利]一种晶圆缺陷测试的抽样方法有效
申请号: | 201711350738.0 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108063101B | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 严诗佳;周伦潮;李磊;王森;冯巍;刘浩 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种晶圆缺陷测试的抽样方法,其中,包括:步骤S1,获取一个或多个晶圆批次申请进入首个机台组进行测试的申请;步骤S2,根据每个晶圆批次的标记在当前机台组的标记列表中进行查找,使得在标记列表中查找到的标记匹配的晶圆批次进入步骤S3;步骤S3,获取当前机台组中与标记相关的每个测试机台的实际负载情况,并根据实际负载情况和负载阈值判断相关的测试机台是否能够容纳匹配的晶圆批次;步骤S4,通过能够容纳的晶圆批次的申请,并将未在标记列表中查找到的标记对应的晶圆批次以及不能容纳的晶圆批次送至下一个机台组;能够考虑测试机台的负载能力,使得测试机台的负载均衡,测试效率高,机台利用率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 缺陷 测试 抽样 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆缺陷测试的抽样方法,其特征在于,包括预设步骤:在每个晶圆批次中设定反应所述晶圆批次的测试要求的标记,并提供多个测试机台作为每个机台组,记录反应每个所述机台组满足的测试要求的标记列表,以及为每个所述测试机台设置一负载阈值;还包括:步骤S1,获取一个或多个晶圆批次申请进入首个所述机台组进行测试的申请;步骤S2,根据每个所述晶圆批次的所述标记在当前所述机台组的所述标记列表中进行查找,使得在所述标记列表中查找到的所述标记匹配的所述晶圆批次进入步骤S3;步骤S3,获取当前所述机台组中与所述标记相关的每个所述测试机台的实际负载情况,并根据所述实际负载情况和所述负载阈值判断相关的所述测试机台是否能够容纳匹配的所述晶圆批次;步骤S4,通过能够容纳的所述晶圆批次的申请,并将未在所述标记列表中查找到的所述标记对应的所述晶圆批次以及不能容纳的所述晶圆批次送至下一个所述机台组。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造