[发明专利]根据电路设计图形设置扫描阈值的方法有效
申请号: | 201711220974.0 | 申请日: | 2017-11-29 |
公开(公告)号: | CN108039326B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 陈超;郭贤权;许向辉;陈昊瑜 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G06T7/00;G06T7/136 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种根据电路设计图形设置扫描阈值的方法,在光学检测机台内增加一个包含有电路设计图形数据库的处理模块,该模块通过对比扫描部分所得到的数字灰阶图像和电路设计图形数据库中所提取该数字灰阶图像所在坐标尺寸的电路设计图形,划分缺陷信号点的落点位置;并在扫描过后将扫描得到的缺陷信号点按照落在曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置分在三个不同的类别内,分别设置扫描阈值参数。本发明能够减少扫描中所得到的前站缺陷的信号数量,从而降低缺陷扫描的非真实缺陷率。 | ||
搜索关键词: | 根据 电路设计 图形 设置 扫描 阈值 方法 | ||
【主权项】:
1.一种根据电路设计图形设置扫描阈值的方法,其特征在于:在光学检测机台内设置一包含有电路设计图形数据库的处理模块,所述处理模块通过对比扫描部分所得到的数字灰阶图像和电路设计图形数据库中所提取该数字灰阶图像所在坐标尺寸的电路设计图形,划分缺陷信号点的落点位置;根据数字灰阶图像中缺陷信号差异点的所在的像素位置,与相应的电路设计图形进行比对,从而判断和区分该差异点信号处在当层设计图形中的曝光位置或非曝光位置;之后,将扫描得到的缺陷信号点按照落在曝光位置、非曝光位置以及曝光和非曝光交界位置分在三个不同的类别内;最后,在扫描程式建立时的阈值参数设定步骤中,在同一扫描区域中,将分落在三个类别内的缺陷信号分别设置扫描阈值参数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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