[发明专利]一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统在审
| 申请号： | 201711193667.8 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107783374A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 孙丞;李青民 | 申请（专利权）人： | 西安立芯光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/67 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710077 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统，结构简明，实现成本低，在产业上能够有效减轻光刻胶溅射问题对涂胶工艺的影响。该控制光刻胶溅射的涂胶机系统，包括涂胶机腔体和设置于涂胶机内腔的载片台以及晶圆；涂胶机腔体的竖直方向设置有抽气系统，涂胶机内腔的侧壁在高度方向上对应于晶圆及其以上的区域向内倾斜，使得光刻胶微粒溅射的主要方向改为向下溅射，涂胶机腔体的侧壁顶端向腔体轴心延展形成导流护板，整体形成从顶端中心向两侧下行的气流导向，使得从晶圆表面甩出的光刻胶微粒被抽气系统带走。因此，本发明提升了光刻胶的表面一致性以及光刻工艺的稳定性，提高了产品良率和产出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 光刻 溅射 涂胶 系统 | ||
【主权项】：
一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统，包括涂胶机腔体和设置于涂胶机内腔的载片台以及晶圆；其特征在于：涂胶机腔体的竖直方向设置有抽气系统，涂胶机内腔的侧壁在高度方向上对应于晶圆及其以上的区域向内倾斜，使得光刻胶微粒溅射的主要方向改为向下溅射，涂胶机腔体的侧壁顶端向腔体轴心延展形成导流护板，整体形成从顶端中心向两侧下行的气流导向，使得从晶圆表面甩出的光刻胶微粒被抽气系统带走。
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