[发明专利]光刻图案化的方法有效
| 申请号： | 201711183989.4 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN108333866B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 张莉琳;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供光刻图案化的方法的实施例。方法包括涂布光致抗蚀剂层于基板上，其中光致抗蚀剂层包括第一聚合物、第一光产酸剂、以及化学添加剂混合于溶剂中；对光致抗蚀剂层进行曝光工艺；以及对光致抗蚀剂层进行显影工艺，以形成图案化光致抗蚀剂层。化学添加剂在光致抗蚀剂层中的分布不一致。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻图案化的方法，包括：涂布一光致抗蚀剂层于一基板上，其中该光致抗蚀剂层包括一第一聚合物、一第一光产酸剂、以及一化学添加剂混合于一溶剂中，其中该化学添加剂在该光致抗蚀剂层中的分布不一致；对该光致抗蚀剂层进行一曝光工艺；以及对该光致抗蚀剂层进行一显影工艺，以形成一图案化光致抗蚀剂层。
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