[发明专利]蒸镀装置与蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201711038771.X 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN107779822B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 刘扬 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 代理人: 林才桂;闻盼盼<国际申请>=<国际公布>
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种蒸镀装置与蒸镀方法。本发明的蒸镀装置在蒸镀源与晶振片之间设置晶振片遮挡板,晶振片遮挡板能够在遮挡晶振片与不遮挡晶振片这两种位置之间切换;晶振片遮挡板处于遮挡晶振片的位置时,蒸镀材料沉积到晶振片遮挡板上,从而避免蒸镀材料沉积到晶振片上;晶振片遮挡板处于不遮挡晶振片的位置时,蒸镀材料可以沉积到晶振片上;本发明的蒸镀装置应用于蒸镀制程时,在蒸镀的初始阶段即待蒸镀材料的表面杂质的蒸发阶段,晶振片遮挡板处于遮挡晶振片的位置,防止杂质沉积到晶振片表面;在待蒸镀材料的表面杂质蒸发完毕后,晶振片遮挡板处于不遮挡晶振片的位置,蒸镀材料沉积到晶振片表面,镀率监控装置获得平稳的蒸镀速率。
搜索关键词: 装置 方法
【主权项】:
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:腔体(10)、设于所述腔体(10)内的蒸镀源(20)、设于所述腔体(10)内且位于所述蒸镀源(20)上方的待镀膜基板(30)、以及设于所述腔体(10)内且位于所述蒸镀源(20)上方的镀率监控装置(40);/n所述镀率监控装置(40)包括晶振片(41);所述晶振片(41)为所述镀率监控装置(40)的探头,所述镀率监控装置(40)通过对沉积到晶振片(41)上的材料膜层的蒸镀速率进行监测并通过计算获得沉积到待镀膜基板(30)上的目标膜层(31)的蒸镀速率;/n所述蒸镀装置还包括设于所述蒸镀源(20)与晶振片(41)之间的任意位置的晶振片遮挡板(50),所述晶振片遮挡板(50)能够在遮挡晶振片(41)与不遮挡晶振片(41)这两种位置之间切换;/n在水平方向上,所述镀率监控装置(40)位于所述待镀膜基板(30)的外围区域;在竖直方向上,所述镀率监控装置(40)位于所述蒸镀源(20)与待镀膜基板(30)之间。/n
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  • 本实用新型提供一种平面蒸发的蒸发源,包括加热装置、坩埚和蒸镀板,坩埚的罐口与蒸镀板的底面之间设置有连接导管。先对坩埚内添加蒸镀的材料,继而通过加热装置对坩埚进行加热,使得该材料被加热气化或者升华。蒸镀的气体通过导流板的导流孔进入蒸镀板的空腔内,再通过分散板上的分散孔使得蒸镀的气体均匀分布于蒸镀板的空腔内,继而通过出料口喷出,对基板进行镀膜。因为整个蒸镀板为一个板面同时喷出蒸镀的气体,使得对于外部的基板可以进行均匀的面源蒸镀,提高生产的效率。
  • 一种加热源-201920525297.1
  • 不公告发明人 - 福建华佳彩有限公司
  • 2019-04-17 - 2020-01-17 - C23C14/24
  • 本实用新型提供一种加热源,其特征在于:包括流体池、加热装置、加热本体和泵。在流体池内添加低熔点且导热良好的钠、钾金属材料或者合金,因此通过加热装置的加热使得位于流体池内的钠金属材料熔融为液态,当温度达到设定值时,开启第一阀门和第二阀门。继而,使用泵将液态钠经由输入管道输出,使得液态钠由加热本体底面输入于中空结构内,再充满至中空结构的顶部输出管道时,经由输出管道再回流至流体池内,并对回流的液态钠进行再加热,形成一个不间断循环加热的加热源。因为流体加热的方式具有良好的导热性,因此可以实现良好的且均匀的加热,避免坩埚局部温度过高导致材料裂解,提高加热的稳定性。
  • 一种蒸镀机构-201920536734.X
  • 不公告发明人 - 福建华佳彩有限公司
  • 2019-04-19 - 2020-01-17 - C23C14/24
  • 本实用新型提供一种蒸镀机构,包括磁板、固定支架、蒸镀坩埚单元、磁性薄膜和真空腔,磁板与竖直面设置有夹角,先在蒸镀的基板的背面上采用蒸镀的方式附上一层磁性薄膜,通过磁性薄膜可以与磁板通过磁吸的原理,将基板完全贴附与磁板上,避免基板发生弯曲的现象。而蒸镀坩埚单元则安装在固定支架上,因为固定支架与磁板相互平行,因此保证了磁板上的基板与固定支架之间的间距相同,进而通过蒸镀坩埚单元进行蒸镀时,可以提高基板蒸镀的质量,同时消除基板的弯曲的问题。
  • 薄膜蒸镀装置-201810725430.8
  • 刘宇 - 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
  • 2018-07-04 - 2020-01-14 - C23C14/24
  • 本发明提供一种薄膜蒸镀装置,包括:靶材固定装置,用于沿第一方向固定设置多个组分不同的靶材;衬底承载装置,用于承载待镀膜的衬底且使所述衬底与所述靶材相对设置;以及加热装置,用于对所述靶材进行加热使所述靶材的材料蒸镀于所述衬底上形成薄膜;所述靶材固定装置与所述衬底承载装置能够使所述靶材与所述衬底沿所述第一方向相对运动。
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