[发明专利]缺陷检测方法在审

专利信息
申请号: 201711027200.6 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107833841A 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 许平康;方桂芹;黄仁德 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 徐文欣,吴敏
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种缺陷检测方法,包括对第一灰度信息和第二灰度信息进行比较处理,如果所述第二灰度信息与所述第一灰度信息不匹配,优化所述待测位置并重复所述第二图像获取步骤至所述第二灰度信息与所述第一灰度信息匹配时,获取所述第二图像。所述比较处理能够判断所述第二图像中是否包括所述待处理缺陷的图像,从而能够防止由于测量误差导致所述第二图像中不具有所述待处理缺陷的图像。因此,所述检测方法能够提高缺陷捕捉成功率。
搜索关键词: 缺陷 检测 方法
【主权项】:
一种缺陷检测方法,其特征在于,包括:提供晶圆,所述晶圆包括检测面,所述检测面具有待处理缺陷;采用第一图像采集处理,获取所述检测面的第一图像,所述第一图像内包括与所述待处理缺陷对应的第一缺陷图像,所述第一缺陷图像包括多个第一像素;获取所述第一缺陷图像的第一灰度信息,所述第一灰度信息包括多个第一像素灰度值,各个第一像素灰度值分别与各第一像素对应;获取所述待处理缺陷相对于检测面的待测位置;在所述待测位置处进行第二图像采集处理,获取所述检测面在所述待测位置处的第二图像,第二图像包括多个第二像素,所述第二图像中第二像素的个数大于或等于所述第一图像中第一像素的个数;获取所述第二图像的第二灰度信息,所述第二灰度信息包括多个第二像素灰度值,各个第二像素灰度值分别与各第二像素对应;对所述第一灰度信息和第二灰度信息进行比较处理,当所述第二灰度信息与第一灰度信息不匹配时,对所述待测位置进行优化,获取重置位置;在所述重置位置处重复第二图像采集处理步骤至比较处理步骤,直至所述第二灰度信息与所述第一灰度信息相匹配。
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