[发明专利]一种红黄光发光二极管芯片及其制造方法在审
申请号: | 201711010646.8 | 申请日: | 2017-10-25 |
公开(公告)号: | CN107968140A | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | 王世俊;邢振远;李彤;董耀尽 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;H01L33/54;H01L33/60 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省金华市义*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种红黄光发光二极管芯片及其制造方法,属于半导体技术领域。芯片包括N型反射层,N型反射层满足分布布拉格反射镜的反射原理,N型电极、N型欧姆接触层和N型反射层在基板上的正投影重合,且N型电极、N型欧姆接触层和N型反射层在基板上的正投影小于N型电流扩展层在基板上的正投影。则粗化反射层能够反射N型电极下方部分光子,反射后的部分光子再经过金属反射层反射至N型电流扩展层的未被N型电极遮挡的区域或LED芯片的侧面,此时光子即可从未被N型电极遮挡的区域或LED芯片的侧面出光,从而增加了发光二极管的出光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 红黄光 发光二极管 芯片 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种红黄光发光二极管芯片,其特征在于,所述芯片包括依次层叠的P型电极、基板、金属反射层、P型欧姆接触层、P型电流扩展层、P型限制层、有源层、N型限制层、N型电流扩展层、N型反射层、N型欧姆接触层,N型电极,所述N型反射层为超晶格结构,所述超晶格结构包括第一子层和第二子层,所述第一子层为(AlxGa1‑x)0.5In0.5P层,0.8≤x≤1,所述第一子层的厚度为50~60nm,所述第二子层为(AlyGa1‑y)0.5In0.5P层,0.4≤y≤0.6,所述第二子层的厚度为55~65nm,所述第一子层的折射率比所述第二子层的折射率小0.1~0.2;所述N型电极、N型欧姆接触层和N型反射层在所述基板上的正投影重合,且所述N型电极、N型欧姆接触层和N型反射层在所述基板上的正投影小于所述N型电流扩展层在所述基板上的正投影。
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