[发明专利]用于离子束研磨的离子喷射器和透镜系统有效

专利信息
申请号: 201710917663.3 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN107768222B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 伊凡·L·贝瑞三世;索斯藤·利尔 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01J37/305 分类号: H01J37/305;H01J37/32;H01L21/311
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张华
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文涉及用于离子束研磨的离子喷射器和透镜系统,本文的实施例涉及用于对半导体衬底执行离子蚀刻的方法和装置、以及用于形成这样的装置的方法。在一些实施例中,可以制造电极部件,电极部件包含具有不同目的的多个电极,每个电极以机械稳定的方式固定到下个。在电极固定在一起之后可以在每个电极中形成开口,因而保证开口在邻近电极之间良好对准。在一些情况下,电极由简并掺杂硅制成,并且电极部件通过静电键合固定在一起。还可以使用其他电极材料和固定的方法。在一些情况下,电极部件可以包含中空阴极发射极电极,其可以具有截锥形或者其他非圆筒开口形状。在一些情况下,还可以存在腔室衬垫和/或反射器。
搜索关键词: 用于 离子束 研磨 离子 喷射器 透镜 系统
【主权项】:
一种制造用于离子束蚀刻反应器的电极组件的方法,所述方法包括:提供第一电极、第二电极和第三电极;提供和固定第一电极间结构,使得其固定在所述第一电极和所述第二电极之间,以及提供和固定第二电极间结构,使得其固定在所述第二电极和所述第三电极之间,其中所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极、所述第一电极间结构和所述第二电极间结构彼此基本上垂直对准以形成电极组件;和在所述第一电极间结构和所述第二电极间结构被固定在所述电极组件中的同时,在所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中形成多个开口,其中在形成所述多个开口之前,所述第一电极间结构和所述第二电极间结构被成形和定位成使得它们不阻挡要在其上形成所述开口的区域。
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