[发明专利]QLED器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710641801.X 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN109326726B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 梁柱荣;曹蔚然;刘佳 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 李艳丽
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种QLED器件,包括依次设置的阳极、p型石墨烯层、空穴注入层、量子点发光层和阴极,其中,所述p型石墨烯层由p型掺杂石墨烯制成,所述p型掺杂石墨烯选自吸附掺杂石墨烯、晶格掺杂石墨烯中的至少一种。
搜索关键词: qled 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种QLED器件,其特征在于,包括依次设置的阳极、p型石墨烯层、空穴注入层、量子点发光层和阴极,其中,所述p型石墨烯层由p型掺杂石墨烯制成,所述p型掺杂石墨烯选自吸附掺杂石墨烯、晶格掺杂石墨烯中的至少一种。
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