[发明专利]图案化方法

摘要

本发明公开一种图案化方法，包含在硬掩模层上形成第一间隙壁图案和第一周围图案，形成平坦化层覆盖第一间隙壁图案和第一周围图案，在平坦化层上形成第二间隙壁图案和第二周围图案，其中第二间隙壁图案和第一间隙壁图案部分重叠，第二周围图案和第一周围图案完全不重叠。移除未重叠于第二间隙壁图案的第一间隙壁图案，形成一阵列图案，然后同时以该阵列图案、该第二周围图案和该第一周围图案为掩模对硬掩模层进行蚀刻，形成一图案化硬掩模层。

主权项

1.一种图案化方法，包含:提供一硬掩模层，包含阵列区和周围区；在该硬掩模层上形成一第一材料层；图案化该第一材料层，分别在该阵列区和该周围区形成一第一阵列图案和一第一周围图案；进行一第一自对准反相图案化制作工艺，将该第一阵列图案转变成一第一间隙壁图案；形成一平坦化层，完全覆盖该第一间隙壁图案和该第一周围图案；在该平坦化层上形成一第二材料层；图案化该第二材料层，分别在该阵列区和该周围区形成一第二阵列图案和一第二周围图案；进行一第二自对准反相图案化制作工艺，将该第二阵列图案转变成一第二间隙壁图案，其中该第二间隙壁图案与该第一间隙壁图案部分重叠，该第二周围图案与该第一周围图案完全不重叠；以该第二间隙壁图案和该第二周围图案为掩模蚀刻该平坦化层，暴露出部分该第一间隙壁图案，并且完全暴露出该第一周围图案；移除该第一间隙壁图案暴露的部分，形成一第三阵列图案；以该第三阵列图案、该第二周围图案和该第一周围图案为掩模蚀刻该硬掩模层，形成一图案化硬掩模层。