[发明专利]OLED背板的制作方法与OLED面板的制作方法

摘要

本发明提供一种OLED背板的制作方法与OLED面板的制作方法。本发明的OLED背板的制作方法，在对电极层进行氧等离子处理以去除残留光阻之前，在上表面疏水侧表面亲水的像素定义层上制作保护光阻层，从而在进行氧等离子处理过程中，被保护光阻层所覆盖的像素定义层的上表面不会受到氧等离子体的影响，仍然具有疏水性，从而在去除电极层上残留光阻的同时，又能保持像素定义层上表面疏水侧表面亲水的性质，进而便于采用喷墨打印工艺制作OLED器件。

主权项

1.一种OLED背板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1、提供一TFT基板(10)，在所述TFT基板(10)上沉积并图案化形成电极层(21)，在所述电极层(21)及TFT基板(10)上涂布一层有机光阻材料，对该层有机光阻材料进行曝光、显影及烘烤后，得到像素定义层(30)，所述像素定义层(30)在对应于所述电极层(21)的上方设有像素开口(35)，所述像素定义层(30)具有侧表面和上表面，此时所述像素定义层(30)的侧表面具有亲水性，所述像素定义层(30)的上表面具有疏水性，所述电极层(21)的上表面上具有残留光阻(95)；步骤S2、在所述像素定义层(30)上涂布一层普通光阻材料，并通过一道黄光制程对其进行图案化处理，在所述像素定义层(30)上形成保护光阻层(40)，以对所述像素定义层(30)的上表面进行保护，所述保护光阻层(40)对应于所述像素定义层(30)的像素开口(35)的上方设有贯穿开口(45)，所述贯穿开口(45)完全露出相对应的像素开口(35)；步骤S3、在所述TFT基板(10)上方整面施加氧等离子体，对所述电极层(21)进行氧等离子体处理，去除其上表面上的残留光阻(95)，该过程中，被保护光阻层(40)所覆盖的像素定义层(30)的上表面未受到氧等离子体的影响，仍然具有疏水性；步骤S4、去除像素定义层(30)上的保护光阻层(40)，得到OLED背板(1)。