[发明专利]一种母板曝光方法有效
| 申请号： | 201710595988.4 | 申请日： | 2017-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN107422610B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 齐鹏博 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种母板曝光方法，其包括以下步骤：将待曝光的母板放置于掩膜板下方；通过所述掩膜板对母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；移除掩膜板；以及，使用光源对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射。本发明的母板曝光方法，通过对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射，从而可以在显影时抑制行间隔区和列间隔区上的显影液扩散至曝光区边缘处，改善母板曝光区边缘处的过显影现象，进而提高显示面板的显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 母板 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种母板曝光方法，其特征在于，包括：将待曝光的母板放置于掩膜板下方；通过所述掩膜板对所述母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；移除所述掩膜板；以及，使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射；其中，所述行间隔区的宽度和所述列间隔区的宽度介于0‑8毫米之间；所述光源置于所述母板上方；所述行间隔区的宽度小于相邻行曝光区之间的间距，所述列间隔的宽度小于相邻列曝光区之间的间距；所述光阻层采用正光阻。
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