[发明专利]曝光方法和聚光透镜以及曝光机在审
| 申请号： | 201710545148.7 | 申请日： | 2017-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN107247389A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 齐鹏博 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人： | 吴大建,王浩 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光方法和聚光透镜以及曝光机，在聚光透镜中加入挡光装置，调节挡光装置以减小聚光透镜的数值孔径，从而提高曝光机的成像焦深，进而得到更加优化的曝光图像，有利于增加产品量产稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 聚光 透镜 以及 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其特征在于，玻璃基板经过涂布光阻后，进行减压干燥,以去除光阻中大部分的溶剂，再经过烘烤，进入曝光机，利用光罩在玻璃基板上对光阻定义图形；最后经过显影制程显示图形；所述曝光机中包含聚光透镜，所述聚光透镜中设有挡光装置；调节挡光装置以减小聚光透镜的数值孔径；采用离轴曝光模式，入射光线与光罩的入射面呈第一夹角；入射光经光罩狭缝衍射后，由于聚光透镜的数值孔径减小，原本不该进入聚光透镜而事实上进入聚光透镜的衍射光线将被挡光装置挡住而不能透过聚光透镜从而改善了曝光机的成像焦深。
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