[发明专利]一种垂直腔面发射激光器及其制作方法有效
| 申请号： | 201710509464.9 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107240857B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 范鑫烨;姜夕梅;白成林;房文敬;牛慧娟 | 申请（专利权）人： | 聊城大学 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/34 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王庆龙;曹杰 |
| 地址： | 252000 山东省聊*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开一种垂直腔面发射激光器及其制作方法。其中，所述激光器包括：依次层叠的N电极、衬底、第一缓冲层、第一分布布拉格反射镜组、有源层、第二分布布拉格反射镜组和第二缓冲层，对第二缓冲层、第二分布布拉格反射镜组和有源层进行刻蚀形成的圆柱形台体以及围绕所述圆柱形台体的第一分布布拉格反射镜组的部分表面，在圆柱形台体的侧壁和部分表面上形成的掩膜，和位于第二缓冲层上的P电极；本发明提供的垂直腔面发射激光器及其制作方法，通过有源层的量子阱结构、第一分布布拉格反射镜组和第二分布布拉格反射镜组，实现超窄线宽和平顶陡边光谱响应，能够降低VCSEL的阈值电流，提高光电转换效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 垂直 发射 激光器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种垂直腔面发射激光器，其特征在于，包括依次层叠的N电极、衬底、第一缓冲层、第一分布布拉格反射镜组、有源层、第二分布布拉格反射镜组和第二缓冲层，对所述第二缓冲层、所述第二分布布拉格反射镜组和所述有源层进行刻蚀形成的圆柱形台体以及围绕所述圆柱形台体的所述第一分布布拉格反射镜组的部分表面，在所述圆柱形台体的侧壁和所述部分表面上形成的掩膜，和位于所述第二缓冲层上的P电极；其中，所述第一分布布拉格反射镜组包括至少10对层叠设置的分布布拉格反射镜，所述第一分布布拉格反射镜组中包含的铝的含量在生长方向上发生突变，所述有源层包括2至4个层叠设置的量子阱结构，所述部分表面与所述第一分布布拉格反射镜组和所述有源层的接触平面共面且所述部分表面与所述圆柱形台体的侧壁相接触；其中，靠近所述有源层的所述第一分布布拉格反射镜组中的三对所述分布布拉格反射镜的铝含量为90%，所述第一分布布拉格反射镜组中其余的所述分布布拉格反射镜的铝含量为20%。
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