[发明专利]碳化铪薄膜的制备方法、以及包括该碳化铪薄膜的模具在审

专利信息
申请号: 201710446336.4 申请日: 2017-06-14
公开(公告)号: CN108728792A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 陈怀浩;魏洁 申请(专利权)人: 南京佑天金属科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35;C23C14/02
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 高姗
地址: 211164 江苏省南京*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种碳化铪薄膜的制备方法,包括:将基片放入磁控溅射设备真空室内的工作架上,向真空室内通入氩气和乙炔的混合气体;设置真空室的工作参数,其中:溅射压强为0.6Pa,溅射电流为30A,偏压为‑120~‑60V,乙炔气体流量为50~200sccm,沉积时间为1~2h,且基片不加热;以金属铪为溅射靶,在所述基片表面沉积碳化铪薄膜。以及一种模具,包括:模具本体和硬质合金薄膜,所述硬质合金薄膜为上述碳化铪薄膜。本发明优化了碳化铪薄膜的制备工艺,增强了碳化铪薄膜的纯度以及性能的优异性,使得由该碳化铪薄膜制备出的模具拥有更好的耐高温和耐磨性能,适用于硬质合金薄膜的制备领域。
搜索关键词: 薄膜 碳化铪 硬质合金 制备 模具 沉积 磁控溅射设备 乙炔气体流量 室内 压强 乙炔 氩气 薄膜制备 工作参数 混合气体 基片表面 模具本体 耐磨性能 制备工艺 工作架 溅射靶 金属铪 耐高温 真空室 放入 溅射 加热 优化
【主权项】:
1.碳化铪薄膜的制备方法,其特征在于:包括:将基片放入磁控溅射设备真空室内的工作架上,向真空室内通入氩气和乙炔的混合气体;设置真空室的工作参数,其中:溅射压强为0.6Pa,溅射电流为30A,偏压为‑120~‑60V,乙炔气体流量为50~200sccm,沉积时间为1~2h,且基片不加热;以金属铪为溅射靶,在所述基片表面沉积碳化铪薄膜。
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