[发明专利]金属离子浓度调节装置、调节方法及刻蚀设备有效
| 申请号： | 201710423504.8 | 申请日： | 2017-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN107245719B | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 薛大鹏;陈明起 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/46 | 分类号： | C23F1/46 |
| 代理公司： | 11330 北京市立方律师事务所 | 代理人： | 刘延喜;王增鑫 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了金属离子浓度调节装置、调节方法及刻蚀设备。该金属离子浓度调节装置包括：供液管路、金属离子调节系统、金属离子检测系统和控制电路；金属离子调节系统和金属离子检测系统，根据刻蚀液流经供液管路的方向依次设置在供液管路中，且均与供液管路相连通；控制电路分别与金属离子调节系统和金属离子检测系统相电连接，用于根据金属离子检测系统发送的刻蚀液中的当前金属离子浓度和预设的金属离子浓度上、下限阈值，控制金属离子调节系统对刻蚀液中的金属离子浓度进行调节。本发明通过各部件之间的协同工作，对刻蚀过程中的金属离子的浓度进行调节，使得刻蚀速率趋于平稳，进而提高刻蚀效果，降低金属导线出现短路和断路等的几率。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 离子 浓度 调节 装置 方法 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
1.一种金属离子浓度调节装置，其特征在于，包括：/n供液管路、金属离子调节系统、金属离子检测系统和控制电路；/n所述金属离子调节系统和金属离子检测系统，根据刻蚀液流经所述供液管路的方向依次设置在所述供液管路中，且均与所述供液管路相连通；/n所述控制电路分别与所述金属离子调节系统和金属离子检测系统相电连接，用于根据所述金属离子检测系统发送的刻蚀液中的当前金属离子浓度和预设的金属离子浓度上、下限阈值，控制所述金属离子调节系统对刻蚀液中的金属离子浓度进行调节；/n所述供液管路具体包括：调节中供液管路和调节后供液管路；/n所述调节中供液管路包括：调节中主供液管路和调节中支供液管路；/n所述调节中主供液管路和调节中支供液管路的出液口都与调节后供液管路的进液口相连通；以及/n所述金属离子调节系统和金属离子检测系统，根据刻蚀液流经所述供液管路的方向依次设置在所述供液管路中，并均与所述供液管路相连通，具体包括：/n所述金属离子调节系统设置在所述调节中支供液管路中并相连通；/n所述金属离子检测系统设置在所述调节后供液管路中并相连通；/n所述金属离子调节系统，具体包括：/n自动控制阀门和金属离子调节部件；以及/n所述金属离子调节系统设置在所述调节中支供液管路中并相连通，具体包括：/n所述自动控制阀门和金属离子调节部件都设置在所述调节中支供液管路中，且均与所述调节中支供液管路相连通；以及所述控制电路与所述金属离子调节系统相电连接，具体包括：所述控制电路与所述自动控制阀门相电连接；以及/n所述控制电路具体用于当确定出所述金属离子检测系统发送的刻蚀液中当前金属离子浓度大于所述金属离子浓度上限阈值时，开启所述自动控制阀门，使得所述金属离子调节部件降低流经的刻蚀液中的金属离子浓度；当确定出所述当前金属离子浓度小于所述金属离子浓度下限阈值时，关闭所述自动控制阀门；/n所述金属离子调节部件中设置有离子交换树脂；以及/n所述开启所述自动控制阀门，使得所述金属离子调节部件降低流经的刻蚀液中的金属离子浓度，具体包括：/n开启所述自动控制阀门，使得所述金属离子调节部件中的离子交换树脂降低流经的刻蚀液中的金属离子浓度；/n所述金属离子调节部件中还设置有滤网膜和滤芯，所述滤网膜以滤芯为中心逐层缠绕，所述离子交换树脂具体分布在所述滤网膜的层与层之间。/n
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