[发明专利]一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法有效
申请号: | 201710360380.3 | 申请日: | 2017-05-21 |
公开(公告)号: | CN106958012A | 公开(公告)日: | 2017-07-18 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 无锡荣坚五金工具有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;B82Y40/00 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
地址: | 214000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法,属于等离子体技术领域,设备包括:电极、真空排气装置、气体管路、基材固定装置,基材固定装置可以在运动机构的带动下在电极形成的空间内部产生运动,通入单体蒸汽到反应腔室内,进行化学气相沉积,沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段,预处理阶段等离子体放电方式为大功率连续放电,镀膜阶段等离子体放电方式为小功率连续放电。涂层制备过程中,基材的运动特性和等离子体放电能量组合联动。制备过程中等离子体放电的同时,基材产生运动,提高了涂层沉积效率,并改善了涂层厚度的均匀性和致密性。所制备的涂层具有防水防潮,防霉菌,耐酸、碱性溶剂,耐酸、碱性盐雾等特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 基材 运动 等离子体 放电 制备 纳米 涂层 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备,包括:反应腔室(1),其特征在于:还包括:用于等离子体放电的电极(2),设置于反应腔室形成的空间内部;用于形成真空环境的抽气式真空排气装置,所述真空排气装置连接于反应腔室之上,所述真空排气装置包括排气管、一级真空泵和二级真空泵,排气管与反应腔室相连接,排气管依次连接二级真空泵和一级真空泵;用于载气和单体蒸汽通入的气体管路;用于安装基材的基材固定装置,所述基材固定装置设置于电极形成的空间内部;所述基材固定装置以非固定的方式设置于电极形成的空间内部,基材固定安装于基材固定装置之上,基材固定装置设置有运动机构,所述基材固定装置可以在运动机构的带动下在电极形成的空间内部产生运动,其运动方式包括:空间往复运动、平面往复运动、圆周运动、椭圆周运动、球面运动、行星运动或其他不规则路线的运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡荣坚五金工具有限公司,未经无锡荣坚五金工具有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710360380.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的