[发明专利]抛光垫修整器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710291237.3 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN107443250B 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 陈盈同 申请(专利权)人: 咏巨科技有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017;B24D18/00
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 毛燕生
地址: 中国台湾桃*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 抛光垫修整器及其制造方法。抛光垫修整器包括金属基座、微波吸收层以及至少一研磨层。金属基座具有一上表面以及一侧壁面,微波吸收层覆盖金属基座的上表面以及侧壁面,且微波吸收层是通过非微波电浆方法形成。在以微波电浆化学气相沉积法形成研磨层之前,先以非微波电浆法形成覆盖金属基座上表面与侧表面的微波吸收层,可避免以微波电浆化学气相沉积法形成研磨层时,金属基座因吸收微波而与腔体或其它基座之间产生放电的问题。另外,当研磨层为钻石镀膜层时,微波吸收层可作为金属基座与研磨层之间的缓冲层,以避免金属基座与研磨层之间因晶格常数以及热膨胀系数的差异过大,造成研磨层的附着力降低。
搜索关键词: 抛光 修整 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种抛光垫修整器,其特征在于包括:一金属基座,所述金属基座具有一上表面以及一侧壁面;一微波吸收层,所述微波吸收层覆盖所述金属基座的所述上表面以及所述侧壁面;以及至少一研磨层,至少一所述研磨层设置于所述微波吸收层上,且所述研磨层具有多个分散设置的切削端部。
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