[发明专利]掩模和掩模组件在审
申请号: | 201710265404.7 | 申请日: | 2017-04-21 |
公开(公告)号: | CN107385390A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 安范模;朴胜浩;边圣铉 | 申请(专利权)人: | 普因特工程有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L51/56 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人: | 张瑞,王漪 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种用于在基板上形成图案的掩模。该掩模包括通过阳极氧化金属形成的阳极氧化膜,配置为垂直穿过阳极氧化膜并且以与图案对应的关系形成的至少一个透射孔,形成在阳极氧化膜中的具有小于透射孔的直径的多个孔,和提供在每个孔中的磁性材料。 | ||
搜索关键词: | 模组 | ||
【主权项】:
一种用于在基板上形成图案的掩模,包括:通过阳极氧化金属形成的阳极氧化膜;配置为垂直穿过阳极氧化膜并且以与图案对应的关系形成的至少一个透射孔;形成在阳极氧化膜中的具有小于透射孔的直径的多个孔;和提供在每个孔中的磁性材料。
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