[发明专利]掩模和掩模组件

说明书

技术领域

本发明涉及一种掩模和掩模组件。本发明的掩模包括但不限于在形成有机发光二极管的发光层时所使用的用于有机发光二极管的掩模。

背景技术

有机发光二极管(OLED)，是平板显示器的一种，是一种利用掩模(荫罩)的典型电子元件。近年来，有机发光二极管得到了广泛发展并用作为诸如手机等的个人移动通信设备的显示器。有机发光二极管极薄并具有以下优势，有机发光二极管能以矩阵形式寻址，并且即使在15伏或以下的低电压也能驱动。

当制造这种有机发光二极管时，掩模(障板)通常用于形成有机材料沉积区域和第二电极。特别是，当制造包括RGB像素的全彩有机发光二极管时，使用掩模形成各个RGB像素的区域。因此，理所当然的是，掩模的分辨率是很高的。基板和掩模的对准是决定有机发光二极管的图像质量的一个非常重要的因素。

通常，当制造用于有机发光二极管的掩模时，在金属片上涂覆光致抗蚀剂(PR)。通过使用光掩模的曝光和显影过程形成图案(或图案无需任何掩模直接由曝光装置形成)。此后，通过蚀刻将图案转移到金属片上，从而制造掩模。

作为用于制造掩模的金属片，可使用铜、镍、不锈钢等。然而，一般使用属于镍铁合金的因瓦合金作为金属片。与用作基板的玻璃的线性热膨胀系数(3.20×10^-6/℃)相比，因瓦合金具有极低的线性热膨胀系数(1至2×10^-6/℃)。因此，掩模相对于基板的尺寸不太可能受高温沉积过程中的热影响而发生改变。因此，因瓦合金的优势在于，其能够避免在基板对准掩模时的沉积位置与在高温沉积时沉积材料的沉积位置之间的错位。

然而，因瓦合金存在不易通过处理或蚀刻形成图案的问题。图1(a)是示出一种状态的剖视图，其中不能确保蚀刻时所形成的透射孔10的内壁的平直度并且在用于形成图案的蚀刻过程中未均匀形成透射孔10的内部宽度(d1≠d2)。如果如图1(a)所示沉积有机发光材料20，则有机发光材料20将以大于设计沉积区域的宽度d1的实际沉积区域22的宽度d2沉积在基板30上。有机发光材料20的边缘部分的高度比具有宽度d2的实际沉积区域22的中心部分的高度低。因此，会产生在发光时边缘部分看起来比中央部分暗的副作用。这样，由因瓦合金制成的掩模受到难以获得比特定分辨率高的分辨率的图案的限制。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：韩国专利申请公开No.2014-0106986

专利文献2：日本专利申请公开No.

发明内容

鉴于上述问题，本发明的目的在于提供一种掩模和掩模组件，使得能够获得高分辨率图案，以及在不用单独的磁性构件支撑的情况下能容易地且独立地使其与基板接触。

根据本发明的一方面，提供了一种用于在基板上形成图案的掩模，该掩模包括：通过阳极氧化金属形成的阳极氧化膜；配置为垂直穿过阳极氧化膜并且以与图案对应的关系形成的至少一个透射孔；形成在阳极氧化膜中的具有小于透射孔的直径的多个孔；和提供在每个孔中的磁性材料。

在掩模中，阳极氧化膜可包括配置为封闭每个孔的一端的阻挡层，并且至少部分磁性材料可提供在每个孔的底部中。

在掩模中，透射孔可具有在垂直方向均匀的直径。

在掩模中，磁性材料可由镍制成。

在掩模中，该图案可通过在覆盖有掩模的基板上沉积有机发光材料形成。

根据本公开的另一方面，提供了一种用于在基板上形成图案的掩模组件，该掩模组件包括：掩模；和配置为使掩模与基板紧密接触的磁板，其中该掩模包括通过阳极氧化金属形成的阳极氧化膜，配置为垂直穿过阳极氧化膜并且以与图案对应的关系形成的至少一个透射孔，形成在阳极氧化膜中的具有小于透射孔的直径的多个孔，和提供在每个孔中的磁性材料，其中磁板和磁性材料具有磁性，当将基板插在掩模和磁板之间时，通过磁性材料和磁板之间产生的磁力将基板压在掩模上。

在掩模组件中，阳极氧化膜可包括配置为封闭每个孔的一端的阻挡层，并且至少部分磁性材料可提供在每个孔的底部中。

在掩模组件中，透射孔可具有在垂直方向均匀的直径。

在掩模组件中，磁性材料可由镍制成。

在掩模组件中，该图案可通过在覆盖有掩模的基板上沉积有机发光材料形成。

根据本发明，可实现以下效果。

使用通过阳极氧化金属形成的阳极氧化膜，能容易地获得高分辨率图案。

可单独使阳极氧化膜与基板接触，而无需用因瓦合金等制成的磁性构件支撑。因此容易使用阳极氧化膜。