[发明专利]薄膜晶体管及包括薄膜晶体管的显示装置有效
申请号: | 201710154049.6 | 申请日: | 2017-03-15 |
公开(公告)号: | CN107204373B | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 村井淳人;佐藤栄一;三浦正范 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本有机雷特显示器 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L27/32;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 曹正建;陈桂香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 根据一个实施例,薄膜晶体管包括:氧化物半导体层(12),其设置在绝缘基板(11)上方,并且包括位于源极区域(12a)与漏极区域(12b)之间的沟道区域(12c);第一绝缘膜(13),其设置在所述氧化物半导体层(12)上的与所述沟道区域(12c)相对应的区域中;栅电极(14),其设置在所述第一绝缘膜(13)上;第一保护膜(15),其作为包含金属的绝缘膜设置在所述氧化物半导体层(12)、所述第一绝缘膜(13)和所述栅电极(14)上;第二保护膜(16),其设置在所述第一保护膜(15)上;以及第三保护膜(17),其作为含有金属的绝缘膜设置在所述第二保护膜(16)上。根据实施例,可以稳定薄膜晶体管的特性,且可以提高可靠性。此外,可以促进制造工艺,从而提高产率。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 包括 显示装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:氧化物半导体层,其设置在绝缘基板上方,并且包括源极区域、漏极区域和位于所述源极区域与所述漏极区域之间的沟道区域;第一绝缘膜,其设置在所述氧化物半导体层上的与所述沟道区域相对应的区域中;栅电极,其设置在所述第一绝缘膜上;第一保护膜,其作为包含金属的绝缘膜设置在所述氧化物半导体层、所述第一绝缘膜和所述栅电极上;第二保护膜,其设置在所述第一保护膜上;以及第三保护膜,其作为含有金属的绝缘膜设置在所述第二保护膜上。
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