[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201710140199.1 申请日: 2017-03-10
公开(公告)号: CN108074920B 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 范妮婉;陈胜雄;黄正仪;杨荣展;曾祥仁;卢麒友 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种半导体装置包括第一晶体管及第二晶体管、一对第一源极/漏极区、一对第二源极/漏极区以及单元。所述第一源极/漏极区中的每一者对应于所述第一晶体管及所述第二晶体管中相应一者的第一源极/漏极端子。所述第二源极/漏极区中的每一者对应于所述第一晶体管及所述第二晶体管中相应一者的第二源极/漏极端子。所述单元包括第一电压轨、一对第二电压轨以及单元电路。所述第一电压轨耦接至所述第一源极/漏极区。所述第二电压轨中的每一者耦接至所述第二源极/漏极区中相应的一者且用以耦接至所述第一电压轨。所述单元电路耦接至所述第二电压轨中的一者。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,包括:衬底;第一晶体管及第二晶体管,所述第一晶体管及所述第二晶体管中的每一者分别包括第一源极/漏极端子及第二源极/漏极端子;一对第一源极/漏极区,形成于所述衬底之上,所述一对第一源极/漏极区中的每一者对应于所述第一晶体管及所述第二晶体管中相应一者的所述第一源极/漏极端子,一对第二源极/漏极区,形成于所述衬底之上,所述一对第二源极/漏极区中的每一者对应于所述第一晶体管及所述第二晶体管中相应一者的所述第二源极/漏极端子;以及单元,包括:第一电压轨,耦接至所述一对第一源极/漏极区且用以耦接至外部电源,一对第二电压轨,所述一对第二电压轨中的每一者耦接至所述一对第二源极/漏极区中相应的一者,且所述一对第二电压轨中的每一者用以耦接至所述第一电压轨并提供与所述外部电源的第一电压对应的单元电压;以及单元电路,耦接至所述一对第二电压轨中的一者。
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