[发明专利]包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环的部件有效
| 申请号： | 201710122891.1 | 申请日： | 2017-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN107393797B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 贾斯廷·查尔斯·卡尼夫 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环的部件。一种用于等离子体处理系统的基座包括衬底支撑表面。环形边缘环围绕衬底支撑表面的周边布置。化学气相沉积(CVD)金刚石涂层布置在环形边缘环的暴露于等离子体的表面上。CVD金刚石涂层包括sp3键。金刚石涂层中的sp3键的纯度大于90％。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 具有 高纯 sp3 cvd 金刚石 涂层 边缘 部件 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体处理系统的基座，其包括：衬底支撑表面；围绕所述衬底支撑表面的周边布置的环形边缘环；和布置在所述环形环的暴露于等离子体的表面上的金刚石涂层，其中所述金刚石涂层包括sp3键，并且其中所述金刚石涂层中的所述sp3键的纯度大于90％。
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