[发明专利]微型发光二极管单元的中介结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710036074.4 申请日: 2017-01-17
公开(公告)号: CN106816408B 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 吴宗典;张正杰;罗国隆;林炳昌 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/15
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;许志影
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种微型发光二极管的中介结构的制造方法。形成微型发光二极管于生长基板上。提供传递基板并形成牺牲层于传递基板上。接着,将微型发光二极管与传递基板。去除传递基板上的至少部分牺牲层,以使微型发光二极管与传递基板之间存在间隙。未去除的牺牲层暂时将微型发光二极管固定于传递基板上。
搜索关键词: 微型 发光二极管 单元 中介 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种微型发光二极管单元的中介结构的制造方法,其特征在于,包括:提供一半导体结构,该半导体结构包括依序堆叠于一生长基板内表面上的多层半导体层以及一第一牺牲层,其中,该多层半导体层包括一第一型半导体层、一与该第一型半导体层极性相反的一第二型半导体层;提供一承载结构,该承载结构包括一传递基板以及覆盖该传递基板内表面上的一第二牺牲层;接合该半导体结构的该第一牺牲层与该承载结构的该第二牺牲层,其中,在该第一牺牲层与该第二牺牲层接合后,该第一牺牲层位于该多层半导体层与该第二牺牲层之间;移除该半导体结构的该生长基板;分别图案化该第一型半导体层与该第二型半导体层,以形成多个第一型半导体图案与多个第二型半导体图案;形成彼此分离的多个绝缘图案,该些绝缘图案覆盖对应的该些第二型半导体图案;形成多个第一电极以及多个第二电极,其中,该些第一电极位于对应的该些第一型半导体图案上,该些第二电极位于对应的该些第二型半导体图案上,该些第二型半导体图案、对应的该些第一型半导体图案、对应的该些第一电极以及对应的该些第二电极构成多个微型发光二极管;以及移除至少部分的该第一牺牲层、至少部分的该第二牺牲层或至少部分的该第一牺牲层与该第二牺牲层的堆叠层,以使每一该发光二极管与该传递基板之间存在一间隙,而该些微型发光二极管通过该些绝缘图案的多个连接部与该传递基板连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710036074.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top