[发明专利]微型发光二极管单元的中介结构及其制造方法有效
申请号: | 201710036074.4 | 申请日: | 2017-01-17 |
公开(公告)号: | CN106816408B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 吴宗典;张正杰;罗国隆;林炳昌 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L27/15 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;许志影 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种微型发光二极管的中介结构的制造方法。形成微型发光二极管于生长基板上。提供传递基板并形成牺牲层于传递基板上。接着,将微型发光二极管与传递基板。去除传递基板上的至少部分牺牲层,以使微型发光二极管与传递基板之间存在间隙。未去除的牺牲层暂时将微型发光二极管固定于传递基板上。 | ||
搜索关键词: | 微型 发光二极管 单元 中介 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种微型发光二极管单元的中介结构的制造方法,其特征在于,包括:提供一半导体结构,该半导体结构包括依序堆叠于一生长基板内表面上的多层半导体层以及一第一牺牲层,其中,该多层半导体层包括一第一型半导体层、一与该第一型半导体层极性相反的一第二型半导体层;提供一承载结构,该承载结构包括一传递基板以及覆盖该传递基板内表面上的一第二牺牲层;接合该半导体结构的该第一牺牲层与该承载结构的该第二牺牲层,其中,在该第一牺牲层与该第二牺牲层接合后,该第一牺牲层位于该多层半导体层与该第二牺牲层之间;移除该半导体结构的该生长基板;分别图案化该第一型半导体层与该第二型半导体层,以形成多个第一型半导体图案与多个第二型半导体图案;形成彼此分离的多个绝缘图案,该些绝缘图案覆盖对应的该些第二型半导体图案;形成多个第一电极以及多个第二电极,其中,该些第一电极位于对应的该些第一型半导体图案上,该些第二电极位于对应的该些第二型半导体图案上,该些第二型半导体图案、对应的该些第一型半导体图案、对应的该些第一电极以及对应的该些第二电极构成多个微型发光二极管;以及移除至少部分的该第一牺牲层、至少部分的该第二牺牲层或至少部分的该第一牺牲层与该第二牺牲层的堆叠层,以使每一该发光二极管与该传递基板之间存在一间隙,而该些微型发光二极管通过该些绝缘图案的多个连接部与该传递基板连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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