[发明专利]一种金属含量可调的金属氮化物薄膜的制备方法及反应器有效
| 申请号： | 201710035543.0 | 申请日： | 2017-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN106929821B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 丁士进;王永平;左安安;张卫 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/455 |
| 代理公司： | 31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 周乃鑫 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种金属含量可调的金属氮化物薄膜的制备方法及反应器，该方法包含若干次第一半反应过程及若干次第二半反应过程，通过控制第一半反应过程的循环次数与第二半反应过程循环次数的比例，制备金属含量可调的金属氮化物薄膜；该第一半反应过程是指利用光辐照使吸附在衬底表面的金属有机前驱体发生离解，而在衬底表面留下金属原子层；该二半反应过程是指利用NH | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 含量 可调 氮化物 薄膜 制备 方法 反应器 | ||
【主权项】：
1.一种金属含量可调的金属氮化物薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包含若干次第一半反应过程及若干次第二半反应过程，通过控制第一半反应过程的循环次数与第二半反应过程循环次数的比例，来控制薄膜中金属原子与氮原子的比例，制备金属含量可调的金属氮化物薄膜；其中，所述的第一半反应过程是指利用光辐照使吸附在衬底表面的金属有机前驱体发生离解，而在衬底表面留下金属原子层；所述的第二半反应过程是指利用NH
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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