[发明专利]冷等离子体处理植物种子的处理工艺在审
| 申请号： | 201710025911.3 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN106612743A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 邵汉良 | 申请（专利权）人： | 邵汉良 |
| 主分类号： | A01C1/00 | 分类号： | A01C1/00 |
| 代理公司： | 常州市科谊专利代理事务所32225 | 代理人： | 肖兴坤 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，工艺的步骤中含有：根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地松疏的植物种子为第一类种子，第一类种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，10W～25W的处理功率下对第一类种子进行8～18秒的非电离辐射处理；外壳质地坚硬的植物种子为第二类种子，第二类种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，155W～185W的处理功率下对第二类种子进行18～25秒的非电离辐射处理。本发明能够对不同质地的外壳的种子进行优化冷等离子体处理，从而提高不同类种子的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 植物种子 工艺 | ||
【主权项】：
一种冷等离子体处理植物种子的处理工艺，其特征在于所述工艺的步骤中含有：根据植物种子外壳的质地硬度选择冷等离子体处理的条件对相应的植物种子进行处理；其中，外壳质地松疏的植物种子为第一类种子，第一类种子的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，10W～25W的处理功率下对第一类种子进行8～18秒的非电离辐射处理；外壳质地坚硬的植物种子为第二类种子，第二类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，155W～185W的处理功率下对第二类种子进行18～25秒的非电离辐射处理；外壳质地超硬的植物种子为第三类种子，第三类种子的的冷等离子体处理的条件为：在真空环境中，220W～290W的处理功率下对第三类种子进行20～30秒的非电离辐射处理。
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