[发明专利]经热处理的氮化钛膜和制造方法有效
| 申请号： | 201680007755.1 | 申请日： | 2016-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN107209287B | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | K.S.K.陈;王鹏军 | 申请（专利权）人： | CP菲林公司 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12;G02B1/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 韦欣华;李炳爱 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了经热处理的氮化钛膜，其包括聚合物基材和至少一个氮化钛层。该膜的氮化钛层的特征在于在所述膜的纵向上微观均匀的大致平行的表面裂纹。该膜特别可用作适合施加到曲面透明基材上的阳光控制膜，重影降低或消除。还描述了在施加到透明曲面基材上之前处理氮化钛膜的方法和将氮化钛膜施加到透明曲面基材上的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 热处理 氮化 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.适合施加到曲面透明基材上的经热处理的氮化钛膜，所述膜包括聚合物基材和至少一个氮化钛层，所述氮化钛层的特征在于在所述膜的纵向上的微观均匀的大致平行的表面裂纹。
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- 金春水;常艳贺;李春;邓文渊;靳京城 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 2013-04-18 - 2013-08-07 - G02B1/12
- 本发明涉及一种使深紫外光学薄膜具有光学稳定性的处理方法，该方法包括以下步骤：去除需要镀膜的衬底表面的吸附物；应用先进等离子体源对真空室中的衬底进行预处理，以清理衬底表面的附着物；根据薄膜的膜系结构，在清洗后的衬底上，采用热舟蒸发沉积工艺进行深紫外氟化物多层膜的制备，实现深紫外光学薄膜的设计光谱；利用先进等离子体源，以异于预处理的能量密度对沉积后的薄膜再次进行轰击处理。本发明的处理方法可以很好地解决了现有技术中的不足，在确保光学性能的前提下有效的改善了薄膜的光学稳定性。
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