[发明专利]磁场均匀度调整方法以及磁场均匀度调整装置有效

专利信息
申请号: 201680007259.6 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN107205689B 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 榊原健二;藤川拓也;阿部充志;花田光 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/3873
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 范胜杰;文志
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 即使在垫片托盘的各位置可配置的磁性体片的量具有限制,也可达成高的磁场均匀度,为此测量静磁场发生装置生成的静磁场的分布,计算静磁场的分布与目标磁场之间的误差磁场,一边使目标磁场在预定的磁场范围内变化,一边分别计算在垫片托盘的多个位置中的一个以上的位置配置了磁性体片时可达到的磁场均匀度。选择垫片托盘的各位置的磁性体片的量为预定的上限值以下且可达到的磁场均匀度为预定值以下的目标磁场,在垫片托盘中配置与该目标磁场相对应的磁性体片的量。
搜索关键词: 磁场 均匀 调整 方法 以及 装置
【主权项】:
一种静磁场发生装置的使用了奇异值分解法的磁场均匀度调整方法,所述静磁场发生装置具备垫片托盘,该垫片托盘用于在预定的多个位置分别保持用于对产生的静磁场的均匀度进行调整的磁性体片,所述磁场均匀度调整方法的特征在于,测量所述静磁场发生装置生成的静磁场的分布来计算所述静磁场的分布与目标磁场之间的误差磁场,一边使所述目标磁场在预定的磁场范围内变化一边分别计算在所述垫片托盘的所述多个位置中的一个以上的位置配置了所述磁性体片时可达到的磁场均匀度,选择所述垫片托盘的各个所述位置的磁性体片的量为预定的上限值以下,且所述可达到的磁场均匀度为预定值以下的所述目标磁场,在所述垫片托盘中配置与该目标磁场相对应的所述磁性体片的量。
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