[发明专利]蚀刻液、补给液及铜布线的形成方法有效
| 申请号： | 201680000623.6 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107208279B | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 小寺浩史;片山育代;菱川翔太 | 申请（专利权）人： | MEC股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H05K3/06 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是一种铜的蚀刻液，包含酸、以及选自由脂肪族无环化合物、脂肪族杂环化合物及芳香族杂环化合物所组成的群组中的1种以上的化合物；所述脂肪族无环化合物是碳数2至10的饱和脂肪族无环化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；所述脂肪族杂环化合物是包含五至七元环的化合物(B)，所述五至七元环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子；所述芳香族杂环化合物是包含六元芳香杂环的化合物(C)，所述六元芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子。本发明提供一种蚀刻液及其补给液、以及铜布线的形成方法，本发明的铜的蚀刻液能够在不降低铜布线的直线性(铜布线顶部的布线宽度(W2))的情况下抑制侧面蚀刻，并且能够抑制铜布线底部的布线宽度(W1)的不均。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 补给 布线 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液，是铜的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液是水溶液，包含酸、氧化性金属离子、溴化物离子、以及选自由脂肪族无环化合物、脂肪族杂环化合物及芳香族杂环化合物所组成的群组中的1种以上的化合物；所述脂肪族无环化合物是碳数2至10的饱和脂肪族无环化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；所述脂肪族杂环化合物是包含五至七元环的脂肪族杂环化合物(B)，所述五至七元环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子；所述芳香族杂环化合物是包含六元芳香杂环的芳香族杂环化合物(C)，所述六元芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子。
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