[实用新型]化学机械研磨装置有效
| 申请号: | 201621103915.6 | 申请日: | 2016-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN207171777U | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
| 发明(设计)人: | 崔东圭;安俊镐 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
| 主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司: | 北京冠和权律师事务所11399 | 代理人: | 朱健,陈国军 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种化学机械研磨装置,对基板的研磨层进行研磨的化学机械研磨装置包括研磨垫,其在化学机械研磨工艺中与基板接触;研磨液供给部,其在基板与研磨垫接触的同时进行研磨的研磨工艺中将相互不同的温度的研磨液(s lurry)供给于研磨垫的上面,从而可缩短以每单位时间研磨量较低的状态保持的初期研磨步骤所需要的时间,并且在每单位时间研磨量较高的主研磨步骤可防止研磨液的过热并保证研磨均匀度。 | ||
| 搜索关键词: | 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种化学机械研磨装置,作为一种对基板的研磨层进行研磨的化学机械研磨装置,其特征在于,包括:研磨垫,其在化学机械研磨工艺中与基板接触;研磨液供给部,其在所述基板与所述研磨垫接触的同时进行研磨的研磨工艺中将相互不同的温度的研磨液供给于所述研磨垫的上面。
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