[实用新型]一种光刻机有效
| 申请号： | 201620887356.6 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN205958926U | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李宏强;魏泽勇;曾威;武超;林彦霆;黄宇宇 | 申请（专利权）人： | 东莞同济大学研究院;东莞科伏精密制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司44215 | 代理人： | 詹晓云 |
| 地址： | 523808 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种光刻机，具体涉及一种曝光装置可旋转的光刻机。包括工作平台、PLC控制系统、曝光装置。组装时，X轴滑动平台与Z轴滑动平台通过滑动槽连接，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别与电机连接，实现平移，曝光装置设置在X轴靠后位置，曝光装置与电机连接，实现调节曝光装置与X轴的夹角，托盘与电机连接，曲面产品放置在托盘上，用设置在托盘的夹角固定，避免旋转过程中被甩出。通过曝光装置照射的光线的垂直入射，提高光刻的均匀性，实现光刻的高精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 | ||
【主权项】：
一种光刻机，其特征在于：包括工作平台、PLC控制系统和曝光装置；所述工作平台包括X轴滑动平台、Z轴滑动平台，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别连接有电机，X轴滑动平台和Z轴滑动平台滑动连接； PLC控制系统，用于控制曝光装置及X轴滑动平台、Z轴滑动平台的运动轨迹；曝光装置安装于X轴或Z轴滑动平台上，曝光装置连接有第一旋转电机。
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