[实用新型]一种用于制备发光器件的打印设备、打印基板及打印系统有效

专利信息
申请号: 201620667857.3 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN205705757U 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 彭军军 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B41J3/407
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 310052 浙江省杭州市滨*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种用于制备发光器件的打印设备、打印基板及打印系统。该打印设备包括用于承载打印基板的打印平台,用于对打印基板进行喷墨的打印头,以及用于驱使打印平台或打印头中的至少一个相对于另一个移动的驱动单元;打印平台上设有与打印基板安装位置平行布置的第一预打印区域,且该第一预打印区域处于打印头的打印起始端。在使用该打印设备对打印基板进行喷墨打印时,打印头会先在该第一预打印区域内进行喷墨打印,通过观察、监测第一预打印区域内的打印状况,判断是否需要对打印头进行调试,只有当第一预打印区域内的打印状况满足质量要求时,打印头才继续对打印基板的打印区域进行打印,保证打印区域的喷墨打印质量。
搜索关键词: 一种 用于 制备 发光 器件 打印 设备 系统
【主权项】:
一种用于制备发光器件的打印设备,包括机架,所述机架上设有用于承载打印基板的打印平台,用于对所述打印基板进行喷墨的打印头,以及用于驱使所述打印平台或打印头中的至少一个相对于另一个移动的驱动单元;其特征在于,所述打印平台上设有与打印基板安装位置平行布置的第一预打印区域,且该第一预打印区域处于打印头的打印起始端。
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