[实用新型]遮挡装置及真空溅射机有效
| 申请号： | 201620650052.8 | 申请日： | 2016-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN205999470U | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 乔恩琳;杨大可;张杨;吉冠腾 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种遮挡装置及真空溅射机，遮挡装置用于在真空镀膜过程中遮挡一基板的边缘，包括框体，所述框体的中间呈镂空结构；以及用于在真空环境下控制所述框体相对于所述基板移动的至少一个第一驱动单元。本实用新型中，在不用开腔的情况下，通过第一驱动单元即可调节遮挡装置的位置以及与基板之间的距离，从而实现对遮挡装置的位置进行校准，并且操作简单。 | ||
| 搜索关键词： | 遮挡 装置 真空 溅射 | ||
【主权项】：
一种遮挡装置，用于在真空镀膜过程中遮挡一基板的边缘，其特征在于，包括：框体，所述框体的中间呈镂空结构；以及用于在真空环境下控制所述框体相对于所述基板移动的至少一个第一驱动单元；以及连接于所述框体的至少一个第二驱动单元。
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