[实用新型]一种金属层间电介质性能的测试结构有效
| 申请号： | 201620497296.7 | 申请日： | 2016-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN205752159U | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 王明;张沥文 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种金属层间电介质性能的测试结构，所述测试结构包括：第一金属衬垫和第二金属衬垫，在所述第一金属衬垫上施加正电压，所述第二金属衬垫接地；与所述第一金属衬垫连接的顶层金属层以及和第二金属衬垫连接的底层金属层，所述任一金属层包括由多条相互平行的金属线组成的互插的第一梳状结构和第二梳状结构；以及连接所述第一梳状结构的第一导线和连接第二梳状结构的第二导线。通过本实用新型所述的测试结构，解决了现有技术中测试多层金属层时耗时耗力、占用测试区域的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 电介质 性能 测试 结构 | ||
【主权项】：
一种金属层间电介质性能的测试结构，其特征在于：所述测试结构包括：第一金属衬垫和第二金属衬垫，在所述第一金属衬垫上施加正电压，所述第二金属衬垫接地；与所述第一金属衬垫连接的顶层金属层以及和第二金属衬垫连接的底层金属层，所述任一金属层包括由多条相互平行的金属线组成的互插的第一梳状结构和第二梳状结构；以及连接所述第一梳状结构的第一导线和连接第二梳状结构的第二导线。
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