[实用新型]一种系统级封装的立体堆叠裸片结构有效

专利信息
申请号: 201620437060.4 申请日: 2016-05-16
公开(公告)号: CN206022360U 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 萧建成 申请(专利权)人: 北京中电网信息技术有限公司;中电网(北京)电子科技发展有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/31
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100080 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种系统级封装的立体堆叠裸片结构。所述立体堆叠裸片结构包括若干确优芯片、金属层、绝缘隔离层以及集成有若干不同电阻值的电阻和若干不同电容值的电容的电容电阻阵列;所述电容电阻阵列及确优芯片依次层叠设置,所述绝缘隔离层设置在电容电阻阵列与确优芯片之间或两个确优芯片之间;所述绝缘隔离层内设置有蚀刻通孔,连接位于绝缘隔离层上方和下方的电容电阻阵列和/或确优芯片;所述金属层上设置有预设的设计布局,其设置在两层绝缘隔离层之间,通过蚀刻通孔与所述电容电阻阵列和/或确优芯片连接。上述封装结构,在SIP过程中能够简化布局和提升抗干扰设计,有效的节省了空间,提高了性能。
搜索关键词: 一种 系统 封装 立体 堆叠 结构
【主权项】:
一种系统级封装的立体堆叠裸片结构,其特征在于,所述立体堆叠裸片结构包括:若干确优芯片、金属层、绝缘隔离层以及集成有若干不同电阻值的电阻和若干不同电容值的电容的电容电阻阵列;所述电容电阻阵列及确优芯片依次层叠设置,所述绝缘隔离层设置在电容电阻阵列与确优芯片之间或两个确优芯片之间;所述绝缘隔离层内设置有蚀刻通孔,连接位于绝缘隔离层上方和下方的电容电阻阵列和/或确优芯片;所述金属层上设置有预设的设计布局,其设置在两层绝缘隔离层之间,通过蚀刻通孔与所述电容电阻阵列和/或确优芯片连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中电网信息技术有限公司;中电网(北京)电子科技发展有限公司,未经北京中电网信息技术有限公司;中电网(北京)电子科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620437060.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top