[实用新型]一种原子层沉积ALD热态源的储存装置有效
申请号: | 201620415754.8 | 申请日: | 2016-05-10 |
公开(公告)号: | CN205803592U | 公开(公告)日: | 2016-12-14 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 苏州复纳电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司32261 | 代理人: | 赵丽丽 |
地址: | 215600 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种原子层沉积(ALD)热态源的储存装置,包括瓶体,所述瓶体顶部由瓶盖密封,所述瓶盖与所述瓶体之间采用密封螺丝固定连接,所述瓶盖上设有波纹阀一和波纹阀二,所述波纹阀一连通载气,所述波纹阀二为源蒸汽出口,所述瓶体内侧顶部两侧为弧形顶面,所述瓶体内侧底部为U型底面。本实用新型提供的一种原子层沉积(ALD)热态源的储存装置,实现了ALD源与水、氧的绝对隔绝,保证了ALD源储存的安全性;提高了ALD热态源在工艺过程中较高的利用率,降低ALD工艺过程成本;保证ALD热态源蒸汽压足够、稳定时,有效降低热态源的热分解,可以直接应用于ALD工艺的工业化应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 ald 热态源 储存 装置 | ||
【主权项】:
一种原子层沉积ALD热态源的储存装置,包括瓶体(7),其特征在于:所述瓶体(7)顶部由瓶盖(3)密封,所述瓶盖(3)与所述瓶体(7)之间采用密封螺丝(4)固定连接,所述瓶盖(3)上设有波纹阀一(1)和波纹阀二(2),所述波纹阀一(1)连通载气,所述波纹阀二(2)为源蒸汽出口,所述瓶体(7)内侧顶部两侧为弧形顶面(6),所述瓶体(7)内侧底部为U型底面(5)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的