[实用新型]一种原子层沉积ALD液态源的储存装置有效
| 申请号： | 201620415539.8 | 申请日： | 2016-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN205979155U | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 苏州复纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | F17C1/00 | 分类号： | F17C1/00;F17C13/02;F17C13/04 |
| 代理公司： | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司32261 | 代理人： | 赵丽丽 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种原子层沉积(ALD)液态源的储存装置，包括源瓶瓶体，所述源瓶瓶体内部顶部为弧形顶面，所述源瓶瓶体内部底部中心为U型储源槽，所述源瓶瓶体外侧顶部设有1/2VCR口，所述1/2VCR口两侧分别连接隔膜阀一和隔膜阀二，所述隔膜阀一用于接通载气，所述隔膜阀二为源蒸汽出口。本实用新型提供的一种原子层沉积(ALD)液态源的储存装置，实现了ALD源与水、氧的绝对隔绝，更能提高了ALD源在工艺过程中较高的利用率，保证了ALD源储存的安全性，降低ALD工艺过程成本，可以直接应用于ALD工艺的规模化应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原子 沉积 ald 液态 储存 装置 | ||
【主权项】：
一种原子层沉积ALD液态源的储存装置，包括源瓶瓶体(6)，其特征在于：所述源瓶瓶体(6)内部顶部为弧形顶面(5)，所述源瓶瓶体(6)内部底部中心为U型储源槽(3)，所述源瓶瓶体(6)外侧顶部设有1/2VCR口(4)，所述1/2VCR口(4)两侧的源瓶瓶体(6)上分别连接隔膜阀一(1)和隔膜阀二(2)，所述隔膜阀一(1)用于接通载气，所述隔膜阀二(2)为源蒸汽出口；所述隔膜阀一(1)相对位置低于所述隔膜阀二(2)；所述源瓶瓶体(6)采用316L不锈钢材质，耐10个大气压压力，瓶内壁经电化学抛光，粗糙度小于0.2um；所述源瓶瓶体(6)上设有液位计(7)。
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