[实用新型]发光均匀度校正设备

摘要

本实用新型公开一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。通过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度信号，处理模块根据这些光强度信号来分析该发光模块的发光均匀度，并于该发光模块的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号，而调整模块根据校正信号对应地调整该发光模块所具有的发光单元中的至少一者的发光强度。由此，通过自动化设备来对该发光模块进行发光均匀度校正，可迅速方便地针对发光强度有异常的区域各别进行调整来确保发光均匀度，进而提升电路板的制造良率。

主权项

一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，其特征在于，该发光均匀度校正设备包含：一感测模块，与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度信号；一移动模块，根据一取样位置信息信号，使该感测模块与该发光模块的间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；一处理模块，与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息信号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度信号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正信号；及一调整模块，与该处理模块及该发光模块相耦接，根据该校正信号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。