[发明专利]一种制备平坦化液晶显示器膜层的方法有效
申请号: | 201611244077.9 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106773171B | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 岳守振;张蒙蒙 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/133;G02F1/1333;G03F7/20;G03F7/30 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种制备平坦化液晶显示器膜层的方法,其包括:在基板上形成一以液晶显示器膜层掩膜版进行显影后的负性光阻层;在基板上形成一平坦化的液晶显示器膜层,所述平坦化液晶显示器膜层嵌入显影后负性光阻层的具有液晶显示器膜层定义形状的空隙内并与显影后负性光阻层平齐。本发明所述的平坦化液晶显示器膜层的方法,能够降低走线厚度对阵列成膜地形的影响,在不影响产品良率的前提下,实现低电阻布线,从而降低大尺寸面板信号传输的RC delay。同时采用该方法,可以制作比传统方法更厚的金属层,有效降低大尺寸面板走线的负载,降低信号线电阻,减小信号延迟,提升显示质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 平坦 液晶显示器 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备平坦化液晶显示器膜层的方法,其包括:步骤A,在基板上涂布负性光阻层,并利用液晶显示器膜层掩模版对负性光阻层进行曝光处理,获得覆盖于基板上的曝光处理后负性光阻层;步骤B,对曝光处理后负性光阻层进行显影处理,在覆盖于基板上表面的显影处理后负性光阻层中形成具有液晶显示器膜层定义形状的空隙;步骤D,在显影处理后负性光阻层表面和具有液晶显示器膜层定义形状的空隙表面溅射生长液晶显示器膜层,使液晶显示器膜层覆盖于显影处理后负性光阻层表面,同时覆盖具有液晶显示器膜层定义形状的空隙表面;步骤E,在液晶显示器膜层表面涂布正性光阻层,使正性光阻层覆盖液晶显示器膜层表面,并填充具有液晶显示器膜层定义形状的空隙;步骤F,利用液晶显示器膜层掩模版对正性光阻层进行曝光处理,并进行显影处理,所形成的显影处理后正性光阻层嵌入液晶显示器膜层的具有液晶显示器膜层定义形状的空隙内;步骤G,利用光阻图案掩膜刻蚀掉多余的液晶显示器膜层,获得平坦化液晶显示器膜层,平坦化液晶显示器膜层嵌入显影后负性光阻层的具有液晶显示器膜层定义形状的空隙内并与显影后负性光阻层平齐。
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